110-1_半導體微影製程
教學目標
本課程教學目標為:學生具備職能專業知識與技能,其行為可執行初級微影工程師之工作任務。 獲得勞動部認證iCAP職能導向課程證書所需先備條件:須在本學期同時選修「半導體製程概論」或已修過「半導體製程概論」,在本課程通過後使得獲證。(與選課之學分數取得無關。) 獲得iCAP證書可增進學產接軌之競爭力。
授課形式
理論講述與討論-80.00%;個案分析或作品賞析-10.00%;專題實作與報告-10.00%;田野調查-0.00%;實驗-0.00%;其他-0.00%
課程內容與進度
課程時數 課程 7 1. 半導體產業介紹 7 2. 光阻與光化學(含EUV光阻) 8 3. 微影成像原理 6 4. 曝光設備技術 3 期中學習成效測驗 期中考周進行)) 3 5. 極紫外光(EUV)微影技術 2 6. 光罩技術 2 7. Resolution enhancement techniques (RET) 3 8. Track設備與製程 5 9. 量測技術與SEM實習 5 10. 統計分析與生產控制 3 期末學習成效測驗
教科書/參考書
References of this course: 1. Harry J. Levison, "Principles of Lithography", 3rd ed. (SPIE Press, 2011) ISBN: 9780819483249 2.Chris A. Mack, "Field Guide to Optical Lithography" (SPIE Press, 2006) ISBN: 0819462071 3. Burn J. Lin(林本堅), "Optical Lithography: Here is Why" (SPIE Press, 2010) ISBN:9780819475602 4. Chris A. Mach, “Fundamental Principles of Optical Lithography” (Wiley, 2007) ISBN: 9780470727300 5. Alfred K.-K. Wong, "Resolution Enhancement Techniques in Optical Lithography" (SPIE Press, 2001) ISBN: 0-8194-3995-9 6. 蕭宏(Hong Xiao)著,羅正中、張鼎張譯 "半導體製程 技術導論 (Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology)", 歐亞書局(2rd., 2005) ISBN: 957-2054-84-8 7. Harry J. Levison, "Lithography Process Control" (SPIE Press, 1999) ISBN: 0819430528 8. 網路資訊
評分標準
First exam (35%), final exam (35%), homework + attendance (30%)
學分數
3
授課時數(周)
3
開課班級
M11042
修課人數
21
本課程教學目標為:學生具備職能專業知識與技能,其行為可執行初級微影工程師之工作任務。 獲得勞動部認證iCAP職能導向課程證書所需先備條件:須在本學期同時選修「半導體製程概論」或已修過「半導體製程概論」,在本課程通過後使得獲證。(與選課之學分數取得無關。) 獲得iCAP證書可增進學產接軌之競爭力。
授課形式
理論講述與討論-80.00%;個案分析或作品賞析-10.00%;專題實作與報告-10.00%;田野調查-0.00%;實驗-0.00%;其他-0.00%
課程內容與進度
課程時數 課程 7 1. 半導體產業介紹 7 2. 光阻與光化學(含EUV光阻) 8 3. 微影成像原理 6 4. 曝光設備技術 3 期中學習成效測驗 期中考周進行)) 3 5. 極紫外光(EUV)微影技術 2 6. 光罩技術 2 7. Resolution enhancement techniques (RET) 3 8. Track設備與製程 5 9. 量測技術與SEM實習 5 10. 統計分析與生產控制 3 期末學習成效測驗
教科書/參考書
References of this course: 1. Harry J. Levison, "Principles of Lithography", 3rd ed. (SPIE Press, 2011) ISBN: 9780819483249 2.Chris A. Mack, "Field Guide to Optical Lithography" (SPIE Press, 2006) ISBN: 0819462071 3. Burn J. Lin(林本堅), "Optical Lithography: Here is Why" (SPIE Press, 2010) ISBN:9780819475602 4. Chris A. Mach, “Fundamental Principles of Optical Lithography” (Wiley, 2007) ISBN: 9780470727300 5. Alfred K.-K. Wong, "Resolution Enhancement Techniques in Optical Lithography" (SPIE Press, 2001) ISBN: 0-8194-3995-9 6. 蕭宏(Hong Xiao)著,羅正中、張鼎張譯 "半導體製程 技術導論 (Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology)", 歐亞書局(2rd., 2005) ISBN: 957-2054-84-8 7. Harry J. Levison, "Lithography Process Control" (SPIE Press, 1999) ISBN: 0819430528 8. 網路資訊
評分標準
First exam (35%), final exam (35%), homework + attendance (30%)
學分數
3
授課時數(周)
3
開課班級
M11042
修課人數
21
110-1_有機逆合成分析
教學目標
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